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国林科技:半导体专用整理洗刷设备可满意多级纳米制程需求加速完成国产代替

国林科技:半导体专用整理洗刷设备可满意多级纳米制程需求加速完成国产代替

时间: 2024-11-29 19:04:54 |   作者: 产品中心

  金融界10月21日音讯,有投入资金的人在互动渠道向国林科技发问:公司曾在2024年4月15日互动易回复:公司现在在薄膜堆积范畴的臭氧专用设备,可以彻底满意7纳米制程以下的半导体设备需求,请问是否事实?该产品现在商场开辟情况如何?是否为同类型国产代替产品?国产化率高吗?公司是不是有在研讨5nm,3nm更为先进的设备?

  公司答复表明:公司半导体专用整理洗刷设备可满意多种等级纳米制程的半导体设备需求,现在占公司首要运营业务收入比重较小;公司半导体专用臭氧整理洗刷设备现在验证一切顺利,如契合严重合同信披规范公司将及时进行发表;公司现在具有并掌握了半导体职业用臭氧整理洗刷设备制作及规划工艺多项关键技能,受国家方针支撑和国外技能封闭约束,国产设备迎来进口代替杰出关键,公司将活跃掌握商场机会,加速完成国产代替。

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